2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 絶縁膜技術

[29p-PB1-1~20] 13.3 絶縁膜技術

2013年3月29日(金) 13:30 〜 15:30 PB1 (第二体育館)

[29p-PB1-7] SiおよびGe上high-k作成におけるSiN界面層導入の検討 (1:30 PM ~ 3:30 PM)

立川晋平,中谷友哉,岩崎好孝,上野智雄 (農工大工)

キーワード:半導体