2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.2 絶縁膜技術

[18a-D8-1~12] 13.2 絶縁膜技術

2014年3月18日(火) 09:00 〜 12:15 D8 (D215)

10:45 〜 11:00

[18a-D8-7] SiN膜組成に依存したMONOS型メモリのデータ保持劣化メカニズム解明

藤井章輔,安田直樹 (東芝)

キーワード:不揮発性メモリ