[14a-B4-1~13] 15.6 IV族系化合物

[14a-B4-8] SiO₂注入マスクを用いた6インチ基板上の高エネルギーイオン注入技術開発

〇堀井 拓¹、久保田 良輔¹、和田 圭司¹、田中 聡¹、関口 剛¹、御神村 泰樹¹ (1.住友電気工業(株))

キーワード：SiC、イオン注入、MOSFET