[16p-B7-1~13] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

△ [16p-B7-7] 狭ギャップ高密度水素プラズマによるオンサイトSiH₄生成装置を用いたシリコンエピ成長

〇(M1)武居 則久¹、篠田 史也¹、垣内 弘章¹、安武 潔¹、大参 宏昌¹ (1.阪大院工)

キーワード：プラズマ、シラン、エピタキシャル成長