2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.4 プラズマエッチング

[19p-W621-1~12] 8.4 プラズマエッチング

2016年3月19日(土) 14:30 〜 17:45 W621 (西6号館)

林 久貴(東芝)、江利口 浩二(京大)

16:30 〜 16:45

[19p-W621-8] YOFセラミックスのプラズマ耐性評価

津之浦 徹1、吉田 克己1、矢野 豊彦1 (1.東工大)

キーワード:YOF、プラズマ照射、耐食性材料

YOFセラミックスは、半導体製造装置向けの耐プラズマ材料として、構造材料およびコーティング材料への適用が期待されている。本研究では、YOFの緻密なバルク体を作製し、フッ素系プラズマ照射を行った。その結果、従来材料であるイットリアと比較して、YOFセラミックスは優れた耐食性を示した。