[21p-P17-1~26] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[21p-P17-8] Si-ULSI用の電極形成のための熱処理技術の開発

〇上村 和貴¹、中家 大希¹、荒井 哲司¹、山本 千綾¹、有元 圭介¹、山中 淳二¹、中川 清和¹、高松 利行² (1.山梨大、2.株式会社SST)

キーワード：熱処理技術、NiSi電極、Si-ULSI