[7p-C18-1~11] ＩＶ族系半導体の製膜と低温結晶化（固相結晶化を中心に）

[7p-C18-5] LTPS用CVD成膜技術

〇齋藤 一也¹ (1.株式会社 アルバック)

キーワード：CVD、LTPS、量産装置

アルバックでは、1990年代のLTPSディスプレイの量産開始から現在に至るまで、成膜に関する量産装置を提供し続けている。配線用金属膜の成膜にはスパッタリング装置、半導体、絶縁体成膜にはPECVD装置が用いられるが、今回の講演では、結晶化用プリカーサー膜形成に用いられるPECVDに関する装置技術およびプロセス技術について紹介する。また、今後の応用展開と必用となる技術についても言及したい。