2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[14p-P3-1~19] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2017年3月14日(火) 13:30 〜 15:30 P3 (展示ホールB)

13:30 〜 15:30

[14p-P3-18] 積層メタル技術で作製したMEMS慣性センサのモジュール化の検討

〇(D)高安 基大1,3、權田 惇晟1,3、山根 大輔1,3、伊藤 浩之1,3、小西 敏文2、道正 志郎1,3、石原 昇1,3、町田 克之1,2,3、益 一哉1,3 (1.東工大、2.NTT-AT、3.JST-CREST)

キーワード:積層メタル技術、MEMS、慣性センサ