2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[17a-315-1~15] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

2017年3月17日(金) 09:00 〜 13:00 315 (315)

荻野 明久(静岡大)、市來 龍大(大分大)

10:15 〜 10:30

[17a-315-6] 異なる化学構造を有するポリマー膜に対する水プラズマアッシングプロセスの分光学的検討

〇(M1C)鈴木 宏明1、北野 卓也1、塩田 有波1、石島 達夫1、田中 康規1、上杉 喜彦1、西山 聖2、堀邊 英夫2 (1.金沢大、2.大阪市大)

キーワード:水プラズマ、レジスト除去、アッシング