[17a-E206-1~14] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[17a-E206-5] 金属/半導体界面における仕事関数の再定義とフェルミレベルピンニングの再考

〇西村 知紀¹、矢嶋 赳彬¹、鳥海 明¹ (1.東大院工)

キーワード：仕事関数、ゲルマニウム、フェルミレベルピンニング