10:30 〜 10:45
室井 光子1、〇羽深 等1、三ケ原 孝則2,3、池田 伸一2,3、石田 夕起2,3、原 史朗2,3 (1.横国大院工、2.ミニマルファブ、3.産総研)
羽深 等
発表者・著者、共著者
2018年9月21日(金) 09:00 〜 12:00 233 (233)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 13 半導体
- | 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術
2018年9月20日(木) 13:45 〜 18:00 221C (2Ｆラウンジ1)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 15 結晶工学
- | 15.6 IV族系化合物（SiC）
17:15 〜 17:30
川﨑 稜平1、梅津 康浩2、倉島 圭祐1、塩田 耕平1、廣岡 亜純1、〇羽深 等1 (1.横国大院工、2.テクノクォーツ)