[20p-438-1~21] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

△ [20p-438-4] In-situ表面解析手法による水素プラズマのSiN_x表面改質機構

〇(M1)中根 一也¹、ルネイ　ヘンリカス　ヨセフ フェーフィート²、堤 隆嘉¹、小林 明子²、小林 伸好²、堀 勝³ (1.名大院工、2.日本エー・エス・エム、3.名大未来社会創造機構)

キーワード：原子層エッチング、シリコンナイトライド、プラズマ

高い制御性および加工精度を有する原子層エッチング（ALE）が注目されている。SiNxにおいては、水素プラズマ照射による表面改質およびFラジカルによる改質層除去というサイクルからなるALE手法が報告されている。しかし、水素プラズマ照射による表面改質機構はわかっておらず、改質層の制御は行えていない。そこで、本研究では、種々のin-situ表面解析手法を用いて水素プラズマ照射後のSiNx表面改質機構を解明した。