13:45 〜 14:00
〇野田 周一1,2、谷本 陽佑3、尾崎 卓哉2、栗原 秀行3、星野 恭之3、遠藤 和彦1,2、寒川 誠二1,2 (1.産総研、2.東北大学、3.昭和電工)
野田 周一
発表者・著者、共著者
2018年3月19日(月) 13:45 〜 18:15 C204 (52-204)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 8 プラズマエレクトロニクス
- | 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理
2018年3月20日(火) 13:45 〜 16:45 C101 (52-101)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 13 半導体
- | 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術
14:30 〜 14:45
〇野田 周一1、田中 宏幸1,2、根本 一正1、古賀 和博2、薮田 勇気3、山本 直子3、亀井 龍一郎3、クンプアン ソマワン1,2、原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ推進機構、3.誠南工業（株）)