15:00 〜 15:15 [18p-E304-6] ミニマルCVD装置におけるジクロロシランを用いたシリコンエピタキシャル製膜 〇大谷 真奈1、高橋 俊範1、室井 光子1、羽深 等1、池田 伸一2,3、石田 有起2,3、原 史朗2,3 (1.横国大院工、2.ミニマルファブ推進機構、3.産総研)