16:00 〜 18:00
〇奥 友希1、戸塚 正裕1、佐々木 肇1 (1.三菱電機)
一般セッション(ポスター講演)
13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術
2019年9月18日(水) 16:00 〜 18:00 PB2 (第二体育館)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
16:00 〜 18:00
〇奥 友希1、戸塚 正裕1、佐々木 肇1 (1.三菱電機)
16:00 〜 18:00
〇(M1)Rahul Agrawal1、Kiyoteru Kobayashi1 (1.Tokai Univ.)
16:00 〜 18:00
〇平田 雄也1、小原 学1、勝俣 裕1 (1.明大理工)
16:00 〜 18:00
〇(M1)Weiqi Zhou1、Susumu Horita1 (1.Japan Adv. Inst. Sci & Tech)
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当日参加受付をする方はお渡しする参加票裏面に記載のパスワードをご使用ください。
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