一般セッション(口頭講演)
合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
2019年9月20日(金) 13:45 〜 18:30 B31 (B31)
大島 孝仁(FLOSFIA)、藤原 宏平(東北大)、宇野 和行(和歌山大)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇小野里 尚記1、Cho Hai Jun1,2、太田 裕道1,2 (1.北大院情報科学、2.北大電子研)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇(DC)GOWOON KIM1、HAI JUN CHO1、YU-MIIN SHEU2、HIROMICHI OHTA1 (1.Hokkaido Univ.、2.National Chiao Tung Univ.)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇(D)Mian Wei1、Anup Sanchela2、Bin Feng3、Yuichi Ikuhara3、Hai Jun Cho1,2、Hiromichi Ohta1,2 (1.IST-Hokkaido Univ.、2.RIES-Hokkaido Univ.、3.Univ. Tokyo)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇HaiJun Cho1、Bin Feng2、Takaki Onozato1、Mian Wei1、Anup Sanchela1、Yuichi Ikuhara2、Hiromichi Ohta1 (1.Hokkaido Univ.、2.Univ. of Tokyo)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇谷田 悠太1、吉田 尚悟1、近藤 敬宏1、山田 直臣1 (1.中部大院工)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇近藤 敬宏1、谷田 悠太1、吉田 尚悟1、山田 直臣1 (1.中部大院工)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇嶋 紘平1、小島 一信1、秩父 重英1 (1.東北大多元研)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇(M2)大賀 友瑛1、大島 淳史1、金子 奈帆1、金子 智2,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.神奈川県産技総研)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
Viviana Fili1、Wojciech Szuba1、徐 学俊1、稲葉 智宏1、〇俵 毅彦1,2、尾身 博雄1,2、後藤 秀樹1 (1.NTT物性研、2.NTTナノフォトニクスセンタ)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇稲葉 智宏1、徐 学俊1、俵 毅彦1,2、尾身 博雄1,2、山本 秀樹1、後藤 秀樹1 (1.NTT物性研、2.NTTナノフォトニクスセンター)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇星 翔馬1、工藤 幹太2、尾沼 猛儀2、本田 徹2、金子 健太郎1、藤田 静雄1 (1.京大院工、2.工学院大先進工)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇河原 克明1、大島 祐一2、沖川 満1、四戸 孝1、人羅 俊実1 (1.FLOSFIA、2.NIMS)
スケジュール
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17:15 〜 17:30
〇斉藤 拓海1、加渡 幹尚2、大友 明1,3 (1.東工大物質理工学院、2.トヨタ自動車、3.元素戦略)
スケジュール
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17:30 〜 17:45
〇亀井 海聖1、斉藤 拓海1、加渡 幹尚2、大友 明1,3 (1.東工大物質理工学院、2.トヨタ自動車、3.元素戦略)
スケジュール
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17:45 〜 18:00
〇(M2)森田 公之1、松島 拓海1、土嶺 信男2、金子 智3,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.(株)豊島製作所、3.神奈川県産技総研)
スケジュール
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18:00 〜 18:15
〇田原 大祐1、西中 浩之1、新田 悠汰1、長谷川 将1、吉本 昌広1 (1.京工繊大)
スケジュール
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18:15 〜 18:30
〇(M1)島添 和樹1、西中 浩之1、田原 大祐1、新田 悠汰1、吉本 昌広1 (1.京都工繊大)
スケジュール
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