[20a-PA4-1~14] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[20a-PA4-8] H₂/CH₄ プラズマCVD モデルにおける
H₂ 希釈率がDLC 堆積速度に及ぼす影響の解析

〇(M2)小川 慎¹、小田 昭紀¹、太田 貴之²、上坂 裕之³ (1.千葉工大、2.名城大、3.岐阜大)

キーワード：プラズマ支援化学気相成長、薄膜堆積シミュレーション、容量性結合型プラズマ

本研究で構築したプラズマCVDモデルは，低温プラズマモデルとDLC膜堆積モデルから構成される．本モデルでは成膜を巨視的に扱うことで，膜厚や粒子含有率の計算が可能な現象論的モデルを用いた．膜の堆積は気相中の粒子と膜表面との反応による粒子の吸着や脱離などによって進行する．気相中から膜表面に飛来する粒子はプラズマモデルで計算した電極近傍での粒子フラックスの値を用いて計算を行った．