2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[20p-B31-1~17] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2019年9月20日(金) 13:45 〜 18:30 B31 (B31)

大島 孝仁(FLOSFIA)、藤原 宏平(東北大)、宇野 和行(和歌山大)

16:30 〜 16:45

[20p-B31-11] MgO薄膜のホモエピタキシャル成長および光学特性

星 翔馬1、工藤 幹太2、尾沼 猛儀2、本田 徹2、金子 健太郎1、藤田 静雄1 (1.京大院工、2.工学院大先進工)

キーワード:深紫外発光、MgZnO、酸化物半導体

現在深紫外光源として主流のガス光源には、有害物質の使用や筐体の大きさ、低寿命で大きな消費電力を必要とする等の問題がある。これらを解決する無害で小型の固体光源としてMgZnOに注目している。これまでMg基板上にMg組成95%のMgZnO薄膜を作製し、波長199nmでの真空紫外発光を報告してきたが、MgO薄膜自体の発光特性や構造評価は、発光メカニズムの解明に重要である。そこでMgO薄膜のホモエピタキシャル成長とその評価を行ったので報告する。