[12p-A302-1~18] 8.1 プラズマ生成・診断

[12p-A302-7] マイクロ波励起水プラズマアッシングにおけるOHラジカルとアッシング均一性の相関

〇相澤 洸¹、島田 大伸¹、櫻井 匡¹、石島 達夫¹、田中 康規¹、上杉 喜彦¹、中野 裕介¹、井上 樹²、小野 亮² (1.金沢大自然、2.東大工)

キーワード：マイクロ波、アッシング、発光分光

新規レジスト除去の手法として「水プラズマアッシング法」の研究開発が進められており，高速なフォトレジスト除去およびイオン注入されたレジスト除去が可能である。レジスト除去の均一性向上の課題に対し，マイクロ波の変調条件と照射距離を変更してレジスト除去速度の均一性を評価し，ラジカル発光強度の空間分布との相関について検討した。