一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価
13:30 〜 13:45
〇伊東 俊祐1、谷口 悠高1、田中 敦之2、須賀 唯知3、分島 彰男1 (1.名工大、2.名大、3.明星大)
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13:45 〜 14:00
〇山田 真嗣1、白井 雅紀2、小林 宏樹2、上村 隆一郎2、新井 学1、加地 徹1、須田 淳1 (1.名大、2.アルバック)
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14:00 〜 14:15
〇丹羽 ののか1、川崎 晟也1、隈部 岳瑠1、渡邉 浩崇2、古澤 優太2、田中 敦之2、出来 真斗3、久志本 真希1、新田 州吾2、本田 善央2、天野 浩2,3,4 (1.名大院工、2.名大IMaSS、3.名大VBL、4.名大ARC)
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14:15 〜 14:30
〇宮崎 航1、田中 一1、森 伸也1 (1.阪大院工)
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14:30 〜 14:45
〇遠藤 彗1、堀田 昌宏1,2、須田 淳1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)
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14:45 〜 15:00
〇青島 慶人1、堀田 昌宏1,2、須田 淳1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)
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15:00 〜 15:15
〇井口 紘子1、堀田 昌宏1,2、須田 淳1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)
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15:15 〜 15:30
〇廣木 正伸1、佐藤 慶典1、谷保 芳孝1、熊倉 一英1 (1.NTT物性研)
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15:30 〜 15:45
〇秩父 重英1、嶋 紘平1、小島 一信1、上殿 明良2、石橋 章司3、渡邉 浩崇4、田中 敦之4、本田 善央4、今西 正幸5、森 勇介5、生田目 俊秀6、色川 芳宏6、天野 浩4、小出 康夫6 (1.東北大多元研、2.筑波大数物系、3.産総研CD-FMat、4.名大IMaSS、5.阪大院工、6.物材機構)
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