X線を照射した水中に生成するヒドロキシルラジカルおよび水素ラジカルの局所生成濃度とそれらの生成に対する溶存酸素の影響

[26P1-am1-104] X線を照射した水中に生成するヒドロキシルラジカルおよび水素ラジカルの局所生成濃度とそれらの生成に対する溶存酸素の影響

○松本謙一郎¹、牧野祐典^1,2、上野恵美¹、荘司好美^1,3、伊藤紘³、中西郁夫³、福井浩二² (1. 量研放医研、2. 芝浦工大院システム理工、3. 量研量子生命研)

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