[5a-C11-1~11] 13.3 絶縁膜技術

[5a-C11-2] プラズマ窒化処理によるGeO₂膜の吸湿性改善の検討

〇関谷 陽介¹、岩崎 好孝¹、上野 智雄¹ (1.農工大院工)

キーワード：ゲート絶縁膜、窒化処理、ゲルマニウム