[17p-F206-1~17] 13.3 絶縁膜技術

[17p-F206-11] パルスレーザーアニールによるHfO₂薄膜の非平衡結晶化

〇(M1)森 優樹¹、柴山 茂久¹、矢嶋 赳彬¹、西村 知紀¹、右田 真司²、鳥海 明¹ (1.東大院工、2.産総研)

キーワード：パルスレーザーアニール、ハフニア、HfO2