17:15 〜 17:30 [12p-N102-15] プラズマCVD法によるシリコン膜堆積時の瞬間加熱による高結晶性シリコン膜の成長に関する研究 〇(M2)野島 大志1、花房 宏明1、佐藤 拓磨1、東 清一郎1 (1.広大院先進理工)