日本化学会 第102春季年会 (2022)

講演情報

アカデミックプログラム[A講演]

18. 高分子 » 口頭A講演

[C202-3pm] 18. 高分子

2022年3月25日(金) 13:00 〜 15:40 C202 (年会オンライン)

座長:稲木 信介、山本 武司

14:50 〜 15:00

[C202-3pm-12] スルホキシドを導入した温度応答性高分子の基礎特性評価

早川 舞1、坂間 亮浩1、熊田 怜1、中村 優吹1、ダニエル チッテリオ1、蛭田 勇樹1 (1. 慶應義塾大学)

[言語]日本語

キーワード:温度応答性高分子、スルホキシド、原子移動ラジカル重合、セラノスティクス