[C203-1am] 18. 高分子

[C203-1am-10] メタクリル酸グリシジルで修飾されたポリシランの合成と光パターニングへの応用

^○杉田 健有¹、青木 大亮¹、有光 晃二¹ (1. 東理大理工)

［言語］日本語

キーワード：ポリシラン、光塩基発生剤、メタクリル酸グリシジル、ネガ型、光パターニング