[K504-2vn] 09. 錯体化学・有機金属化学

[K504-2vn-02] 光脱保護を利用した光学活性なBINOLを基盤とするMOFの合成

澤野 卓大¹、^○片口 宙¹、後藤 祐汰¹、荒船 博之²、武内 亮¹ (1. 青山学院大学、2. 鶴岡工業高等専門学校)

［言語］日本語

キーワード：金属有機構造体、不均一触媒、バイノール、光脱保護、不斉アルキル化反応