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[INP-14i] ミセル電解銅フタロシアニン膜の酸化還元に伴う結晶転移
現在、有機顔料の薄膜形成における手法として真空蒸着法が広く用いられている。しかし、この手法は熱で結晶転移が起こる銅フタロシアニン(CuPc)のような物質において、酸化還元挙動の研究を行う上で不適当であった。当研究室で開発されたミセル電解法によれば常温・常圧下で薄膜作製を行うことができ、電気化学反応の検討を行うことができる。そこで、本研究ではミセル電解法によりα、βおよびε形CuPc薄膜を作製し、酸化還元反応に伴う結晶転移の検討をを行った。その結果、α形は維持されるが、β形およびε形は一部がα形に転移するという興味深い結果が得られた。