[PS] インタラクティブセッション ポスター発表

[INP-11i] フォトリソグラフィー技術を用いた酸化ニオブ薄膜による干渉色の混色

*阿部 裕太¹、小松 功¹、前田 秀一¹ (1. 東海大学)

ニオブは陽極酸化によって表面に酸化ニオブが形成され、電圧の変化によって様々な色に発色可能なことが知られている。これは薄膜干渉に起因し、紫外線に対して劣化・退色しない、ある程度高温にも耐えられるなどといったメリットを持つ。しかし、陽極酸化による発色は酸化ニオブ層の膜厚に関係しているため、発色したニオブ基板上に新たな色を置いて混色させることができない。本研究ではニオブ基板上にフォトリソグラフィーの技術による画像形成手法を用いて市松模様のパターンを形成し、並置加法混色によって混色を行うことを目的とした。結果、異なる電圧によって着色した2つの色を混色させ、新しい色を作り出すことに成功した。