Schedule 3 9:30 AM - 9:55 AM [3B201] ビニル基系有機シリコン原料を用いたPECVD法によるSiO:CH微粒子堆積膜の作製 中泉 有稀1、*井上 泰志1、高井 治2 (1. 千葉工業大学、2. 関東学院大学)