日本金属学会2022年秋期(第171回)講演大会

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公募シンポジウム講演

[S8] S8.Materials Science and high temperature processing of widegap materials IV

Thu. Sep 22, 2022 1:00 PM - 5:00 PM Rm. E (D24,2Flr. Build.D)

座長:吉川 健(東京大学)、福山 博之(東北大学)、美濃輪 武久(信越化学工業)

3:50 PM - 4:10 PM

[S8.6] High bulk density SiC fabrication by reactive infiltration of Si into SiC/C tablets

*SOTA IKARASHI1, SAKIKO KAWANISHI2, TAKESHI MITANI3, Chaussende Didier4, TAKESHI YOSHIKAWA5, HIROYUKI SHIBATA2 (1. Tohoku Univ., 2. Tohoku Univ., 3. AIST, 4. CNRS-SIMaP, 5. Univ. Tokyo)

Keywords:反応性含浸、SiC溶液成長

SiCの単結晶育成法である溶液成長法では、溶液保持用にSiC材料が必要である。SiC材料の作製方法としてC/SiC混合圧粉体へのSiの反応性含浸を利用し、高かさ密度のSiCが生成する条件について調査を行った。

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