日本金属学会2024年秋期(第175回)講演大会

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公募シンポジウム講演

[S7] S7.Materials Science and high temperature processing of widegap materials VI

ワイドギャップ結晶は、省エネ・環境負荷低減に寄与するパワーデバイスや短波長光デバイスへの応用・開発が進められている。特にSiCパワーデバイスは本格的量産が進み、GaNもLEDのみならずパワーデバイス用基板の生産が進められつつある。さらなる発展には各材料の高品質結晶の育成技術の確立や、高効率ウェハー化やデバイスプロセスの開発が望まれている。講演大会では、これまで5回の公募シンポジウムを開催し、で研究・開発の最新動向を議論してきた。
 本シンポジウムでも引き続き、SiCや窒化物材料、酸化物材料等ワイドギャップ結晶の育成技術や再加工技術、欠陥低減技術について、金属材料学や冶金学や半導体工学、またそれらの融合分野の最新の研究を議論する。

Fri. Sep 20, 2024 1:00 PM - 4:45 PM Room J (A204 2nd floor Building A Center for Education in Liberal Arts and Sciences)

Chair:Masayoshi Adachi

1:40 PM - 2:00 PM

[S7.2] 2-inch SiC solution growth using SiC liner crucible fabricated by reactive infiltration

*Sakiko KAWANISHI1, Takeshi MITANI2, Sora Ashimoto1, Didier Chaussende3, Takeshi Yoshikawa4 (1. Kyoto Univ., 2. AIST, 3. CNRS-SIMaP, 4. Osaka Univ.)

Keywords:シリコンカーバイド、溶液成長、反応性含浸、SiC

反応性含浸SiCライナーるつぼを用いた2インチSiCの溶液成長を実施し、ボイドフリーのSiCの育成に成功した。比較的安価なSiC原料としての有効性を見出した。

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