Despite the importance of the atomic layer deposition (ALD) technique for developing thin films of various inorganic materials with the precisely controlled thickness, the detailed mechanistic pathway and thermodynamics of the ALD processes are not fully understood. In this study, the first principles density functional theory calculations for ALD of Al₂O₃ are employed to explore the reaction thermodynamics and kinetics in the chemical adsorption of precursors during the cycles.

固体表面上での協奏的な組み合わせは、固体触媒設計の神髄とも言えるが、異種化合物が表面上で形成する構造や相互作用を予見することは非常に困難である。本発表では、ハイスループット実験とデータ科学の融合が、コンビナトリアルな触媒設計において、非常に強力な手段であることを、我々の最近の研究成果を例に紹介する。