[P14-P25] Poster sess. B

[P23] HC removal property in aftertreatment system using non-thermal plasma

○Tomohiro Suzuki¹, Ryoichi Shimamura¹, Ryutaro Tamaki¹, Takamasa Imanishi¹, Yuta Shima¹, Kazuya Naito¹, Tatsuya Ehara¹ (1. DAIHATSU MOTOR CO., LTD.)

Keywords:HC removal property, Non-thermal Plasma, Aftertreatment system

将来予想される自動車排ガス規制強化やRDE対応には、低温始動時の排ガス浄化が今後益々重要になっていく。本研究では、排ガス温度依存性の少ない低温プラズマにHC吸着材や触媒を組み合わせた排ガス後処理システムを構築し、低温始動条件で排出されるHCの浄化性能を調査した。実車および実エンジンから排出されるHC成分を対象に、プラズマと触媒それぞれで浄化されるHC成分を調査・解析したため報告する。