日本分析化学会第71年会

講演情報

(ポスター講演)

一般ポスター/テクノレビューポスター

一般ポスター-1B

2022年9月15日(木) 10:45 〜 12:15 PB/YB会場 (大学会館2F)

10:45 〜 12:15

[PB2055] (fsLA-)spICP-MSによるSiウェハ表面の粒子状汚染物質評価技術の基礎検討

*山下 真弘1、島村 佳典2、奥田 勇気3 (1. 京セラ(株)、2. アジレント・テクノロジー(株)、3. 西進商事(株))

キーワード:spICP-MS、fsLA-spICP-MS、LA-ICP-MS、nanoparticle

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