[16p-C11-1~12] 界面ナノ電子化学：産業界における最先端半導体デバイスのナノレベル界面制御の課題

[16p-C11-2] 先端半導体メモリにおける洗浄技術の課題（30分）

^○小川義宏 (東芝セミコンダクター＆ストレージ社　先端メモリ開発センター)

キーワード：洗浄,乾燥