2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 絶縁膜技術

[17p-B5-1~21] 13.3 絶縁膜技術

2013年9月17日(火) 13:00 〜 18:30 B5 (TC2 2F-201)

13:15 〜 13:30

[17p-B5-2] 準安定正方晶ZrO2構造の安定化機構の解明

加藤公彦,斉藤貴俊,坂下満男,田岡紀之,中塚理,財満鎭明 (名大院工)

キーワード:ZrO2,正方晶,安定化