2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

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[18p-C5-1~8] 大電力パルススパッタリングによる反応性成膜プロセスの可能性(関連大分類:8)

2013年9月18日(水) 14:00 〜 18:15 C5 (TC3 1F-115)

15:00 〜 15:30

[18p-C5-3] 生産規模でのプラズマイオンプロセスの比較(30分)

廣田悟史1,Rainer Cremer2,高橋哲也2 (神戸製鋼所1,KCS2)

キーワード:イオン化、ハイピムス、スパッタ、大電力