[18p-C5-1~8] 大電力パルススパッタリングによる反応性成膜プロセスの可能性（関連大分類：8）

△ [18p-C5-6] マイクロ波プラズマを用いた無磁場酸化物薄膜スパッタ装置の開発

^○野田智紀¹，萩原敏哉¹，豊田浩孝^1,2 (名大工¹，名大プラズマナノ²)

キーワード：スパッタリング