[19a-C10-1~9] 13.4 配線技術

[19a-C10-2] 中性粒子ビームにおけるRFバイアス印可状態のモニタリングと加速機構解明

^○榊原康明²，菊地良幸^1,2，寒川誠二¹ (東北大¹，東京エレクトロン²)

キーワード：中性粒子ビーム支援化学気相成長法,SiCOH系低誘電率絶縁膜,アルゴンプラズマ