[19p-B4-1~21] 13.5 Siプロセス技術

▲ [19p-B4-20] Activation of Silicon Implanted with Dopant Atoms by Microwave Heating

^○（B）中村友彦¹，滋野聖¹，吉冨真也¹，蓮見真彦¹，石井寿子¹，鮫島俊之¹，井内裕²，内藤勝男²，水野智久³ (東京農工大¹，日新イオン機器²，神奈川大³)

キーワード：不純物活性化,イオン注入