2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

14.半導体B(探索的材料・物性・デバイス) » 14.3 電子デバイス・プロセス技術

[19p-D7-1~17] 14.3 電子デバイス・プロセス技術

2013年9月19日(木) 13:00 〜 17:45 D7 (MK 3F-302)

14:00 〜 14:15

[19p-D7-4] 高電流密度化にむけたInP ソースを有するIII–V–OI InGaAs MOSFET のチャネル厚依存性

大澤一斗,加藤淳,佐賀井健,金澤徹,上原英治,宮本恭幸 (東工大理工)

キーワード:InGaAs MOSFET,チャネル厚依存性