[20a-B4-1~11] 13.5 Siプロセス技術

[20a-B4-9] ミニマルCMP装置によるSi及びSiO₂膜に対するCMPプロセス

^○梅山規男^1,2，居村史人^1,2，中戸克彦¹，澁谷和孝^1,3，中村由夫^1,3，市川浩一郎³，ソマワン クンプアン^1,2，原史朗^1,2 (ミニマルファブ技術研究組合¹，産総研²，不二越機械工業³)

キーワード：CMP,ミニマルファブ