2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.1 基礎物性・評価

[20a-C9-1~12] 13.1 基礎物性・評価

2013年9月20日(金) 09:00 〜 12:15 C9 (TC3 2F-202)

11:15 〜 11:30

[20a-C9-9] 結晶Ge極薄膜をシード層とするa-Siの固相成長

斎藤聡哲,半那純一 (東工大像情報)

キーワード:半導体,アモルファス,多結晶