[28p-G2-1~16] 13.3 絶縁膜技術

[28p-G2-12] △低温・超低損傷中性粒子ビーム酸化を用いたAl₂O₃/GeO_x/Ge構造の形成 (5:30 PM ～ 5:45 PM)

^○和田章良^1,2，中山大樹¹，Rui Zhang³，高木信一³，寒川誠二^1,4 (東北大流体研¹，東北大μSIC²，東大院工³，東北大WPI-AIMR⁴)

キーワード：中性粒子ビーム、酸化技術、Geプロセス技術