[29p-A3-1~6] 16.2 プロセス技術・デバイス

[29p-A3-4] 溶液プロセスa-Si:H膜の膜厚方向の特性分布 (2:15 PM ～ 2:30 PM)

^○（M1）佐久間陽¹，大平圭介^1,2，増田貴史^1,3，申仲栄^1,2，高岸秀行^1,2，Lam Pham^1,2，下田達也^1,2,3 (北陸先端大¹，JST-ALCA²，JST-ERATO³)

キーワード：溶液プロセス、液体シリコン、a-Si