2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

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[29p-A3-1~6] 16.2 プロセス技術・デバイス

2013年3月29日(金) 13:30 〜 15:00 A3 (K1号館 2F-201)

[29p-A3-5] スリットコート法を用いたa-Si:H薄膜の作製 (2:30 PM ~ 2:45 PM)

高岸秀行1,3,松木安生2,4,増田貴史1,4,申仲栄1,3,Lam Pham Tien1,3,大平圭介1,3,下田達也1,3,4 (北陸先端大1,JSR2,JST ALCA3,JST ERATO4)

キーワード:アモルファスシリコン薄膜、スリットコート法、液体シリコン材料