2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

08.プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[17p-F1-1~16] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

2014年3月17日(月) 14:00 〜 18:15 F1 (F201)

17:15 〜 17:30

[17p-F1-13] SiH4/H2系プラズマ中の非発光H原子の重要性

片山博貴,吉田功,矢田茂郎,寺川朗 (パナソニック)

キーワード:水素ラジカル,プラズマシミュレーション,薄膜Si