[17p-F1-1~16] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[17p-F1-5] パルスRFスパッタリング法による抵抗変化材料薄膜の作製

^○塚本真大¹，山田昌樹¹，酒井道¹，中村敏浩² (京大工¹，大阪電気通信大工²)

キーワード：パルススパッタ