[18a-D8-1~12] 13.2 絶縁膜技術

[18a-D8-10] Al/Al₂O₃/Al-rich Al-O/SiO₂/p-Siゲート構造メモリの高温保持特性評価

^○尾崎槙哉¹，川江健²，森本章治² (金沢大院自然¹，金沢大理工²)

キーワード：半導体,メモリ,電荷蓄積